올해 영향력 지수 1.847점… 국내 치의학 SCIE 저널 중 최고점수 받아

JPIS 최신호 표지(2020년)

대한치주과학회(회장 구영)가 발행하는 SCIE 국제학술지인 ‘JPIS(Journal of Periodontal&Implant Sciencs)’가 영향력 지수 평가에서 올해 1,847 점수를 받았다. 이는 국내 치의학 SCIE 학술지 중 최고 점수다.

JPIS는 2014년 SCIE급 학술지로 처음 등재됐으며, 당해 영향력 지수는 1.145였고, 지난해는 1.472였다.

특히 올해 JPIS는 치과계 SCIE 등재 국제학술지 전체 91개 중 40위를 차지해 상위 50% 이내 학술지 그룹에 처음 진입했다.

구영 회장은 “학회 창립 60주년을 맞는 올해 학술지가 국제적으로 역대 최고의 평가를 받아 더욱 의미가 있다”며 “학회지 발간에 힘써준 신승윤 편집장, 박준범 편집이사, 윤정호‧박신영 편집실행이사와 편집위원들의 노고에 감사하다”고 전했다.

신승윤 편집장은 “PubMed 등재 10년, SCIE 등재 6년만에 상위 50% 그룹에 진입한 것은 큰 의미가 있다”며 “상위 25% 학술지 그룹에 진입하기 위해 게재논문의 질 관리뿐만 아니라 출판윤리 강화에 더욱 철저히 기하겠다”고 밝혔다.

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